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China baut etwas, das alles in der Chip-Industrie verändern könnte. Tief in Shenzhen arbeiten Ingenieure mit Hochdruck daran, eine Maschine zu entwickeln, von der der Westen sagte, sie könne nicht kopiert werden. Das ist nicht nur ein weiteres Tech-Projekt. Es ist ein ehrgeiziger Versuch, das bestgehütete Geheimnis der modernen Fertigung zu knacken : extreme Ultraviolettlithographie. Wenn sie Erfolg haben, verschiebt sich das globale Gleichgewicht der Halbleitermacht über Nacht. Was steht auf dem Spiel ? Billionen von Dollar und technologische Vorherrschaft für Generationen.
Der Shenzhen-Prototyp : Was wir über Chinas heimische EUV-Maschine wissen
Ehrgeiz hat in einem schwer bewachten Labor in Shenzhen physische Gestalt angenommen, wo Chinas erste selbst entwickelte Extrem-Ultraviolett-Lithographiemaschine nun Tests unterzogen wird. Anfang 2025 fertiggestellt, repräsentiert dieser massive Prototyp—der sich über fast eine ganze Fabrikhalle erstreckt—jahrelange einheimische Innovation, die darauf abzielt, sich von ausländischen Chip-Herstellungskontrollen zu befreien.
Die Maschine leistet etwas Bemerkenswertes : sie erzeugt 13,5 Nanometer EUV-Licht, indem sie leistungsstarke Laser auf winzige Zinntröpfchen feuert. Dies entspricht derselben grundlegenden Physik, die westliche Chipfabriken antreibt. Dennoch bleiben kritische Fragen unbeantwortet. Kann sie eine stabile Leistungsabgabe aufrechterhalten ? Erreicht sie die mikroskopische Präzision, die für die tatsächliche Chipproduktion benötigt wird ?
Das Projekt hat auf Expertise von ehemaligen ASML-Ingenieuren zurückgegriffen und internationale Erfahrung in Chinas einheimische Halbleiter-Ambitionen eingebracht. Dieser Wissenstransfer hat Entwicklungszeiten beschleunigt und die technischen Fähigkeiten der lokalen Ingenieursteams, die am Prototyp arbeiten, verbessert.
Reverse Engineering ASML : Talentrekrutierung und geborgene Komponenten
Hinter Chinas EUV-Fortschritt liegt eine Strategie, die so alt ist wie der industrielle Wettbewerb selbst : vom Marktführer zu lernen. Das Shenzhen-Projekt hat aktiv Talentrekrutierung betrieben und ehemalige ASML-Ingenieure an Bord geholt, um Reverse-Engineering-Bemühungen zu leiten. Diese erfahrenen Personen arbeiten mit frischen Universitätsabsolventen zusammen und verbinden institutionelles Wissen mit jugendlicher Energie.
Die Operation beschränkt sich nicht auf Arbeiter. Wiederverwertete Komponenten von älteren ASML-Maschinen, die über Sekundärmärkte erworben wurden, bilden das Fundament des Prototyps. Zwischenhändler verschleiern, wer diese gebrauchten Teile wirklich kauft, und schaffen eine schattenhafte Lieferkette.
Mitarbeiter erhalten falsche Ausweise, um den Personalaufbau des Labors vor ausländischen Augen zu verbergen. Es ist Industriespionage trifft auf Innovation—ein kontroverser Ansatz, der schneller Ergebnisse produziert als Experten vorhergesagt hatten und westliche Annahmen über technologische Eindämmung herausfordert. ASMLs CEO hatte ursprünglich prognostiziert, dass China deutlich mehr Zeit benötigen würde, um solche Technologie eigenständig zu entwickeln.
Technische Engpässe, die noch im Weg stehen
Selbst mit all dem Talent und den geborgenen Teilen der Welt bleibt der Bau einer EUV-Lithographiemaschine brutal schwierig. EUV-Optiken erfordern Spiegelbeschichtungen so rein, dass sie über 70% des Lichts reflektieren—eine Leistung, die Werkzeuge erfordert, die nur wenige Nationen besitzen. Die Quelltechnik steht vor Stabilitätsproblemen und benötigt Hochgeschwindigkeitslaser, die tausende Male pro Sekunde auf winzige Zinntropfen feuern. Trümmer-Management wird kritisch, da verdampftes Zinn empfindliche Komponenten zerstört. Kontaminationskontrolle erfordert fortschrittliche Vakuumsysteme und ständige Reinigung. Ausrichtungstoleranzen müssen Sub-Nanometer-Präzision erreichen, was Messtechnik erfordert, die China nicht einfach replizieren kann. Maskentechnologie bringt ihre eigenen Produktionsherausforderungen mit sich, wobei defektfreie Rohlinge global knapp sind. Inspektionsfähigkeiten für diese Masken erfordern spezialisierte aktinische Werkzeuge, die außerhalb von ASMLs Ökosystem kaum existieren. Historische Entwicklungsmuster zeigen, dass finale Integrationsphasen oft mehr Zeit verbrauchen als die anfänglichen Durchbruchphasen. Jede Barriere verstärkt die anderen und schafft eine Festung technischer Komplexität.
Vom Prototyp zur Produktion : Warum 2028 zu optimistisch sein könnte
Während chinesische Beamte 2028 anstreben, flüstern Quellen, die dem Projekt näherstehen, dass 2030 erreichbarer erscheint. Halbleiterskepsis unter westlichen Analysten rührt von echten technischen Hürden her—Ertragsoptimierung, Zuverlässigkeit und wirtschaftliche Machbarkeit erfordern alle Jahre der Verfeinerung. Der Prototyp hat noch keine funktionierenden Chips produziert. Diese Lücke zwischen Demonstration und Massenproduktion stellt den Unterschied zwischen einem wissenschaftlichen Experiment und einer echten Herausforderung für die westliche Chip-Dominanz dar. Experten warnen, dass die Skalierung der Produktion eine separate Herausforderung vom erfolgreichen Prototyping darstellen könnte.
Die geopolitische Halbleiter-Landschaft neu gestalten
Chinas EUV-Fortschritt verändert nicht nur das Chipfertigungsspiel—er erschüttert, wie Länder über Technologieaustausch und nationale Sicherheit denken. Wenn eine Nation das bauen kann, was eine andere durch Exportregeln fernzuhalten suchte, beginnt die ganze Idee der Kontrolle zu bröckeln. Diese Verschiebung zwingt alle dazu, Lieferketten zu überdenken, sich Sorgen zu machen, dass Militärtechnik in rivalisierende Hände fällt, und sich zu fragen, ob sich die Halbleiterwelt in getrennte Lager aufteilen wird. Die Prototyp-Maschine, die durch Reverse-Engineering älterer Komponenten gebaut wurde, zeigt, dass technologische Barrieren durch entschlossene Anstrengungen und Einfallsreichtum überwunden werden können.
Exportkontrollen treiben Entkopplung voran
Mehrere mächtige Nationen haben Exportbestimmungen zu einer neuen Art von Waffe im globalen Wettlauf um die Chip-Herstellungsdominanz gemacht. Die Vereinigten Staaten und ihre Partner blockieren nun den Zugang zu fortschrittlichen Maschinen, die winzige Schaltkreise auf Siliziumwafer drucken. Diese Beschränkungen zielen darauf ab, Chinas Fortschritt bei der Herstellung hochmoderner Chips zu verlangsamen.
Das Ergebnis ? Die Entkopplungsdynamik beschleunigt sich rasant. Chinesische Unternehmen horten ältere Ausrüstung, bevor sich die Türen vollständig schließen. Währenddessen stehen westliche Anbieter vor schwierigen Entscheidungen darüber, wo sie Fabriken bauen und wen sie bedienen sollen. Diese Spaltung schafft zwei getrennte Technologiewelten.
Die Widerstandsfähigkeit der Lieferkette ist zur Priorität aller geworden. Länder beeilen sich, ihre eigenen Quellen für kritische Teile zu sichern—Laser, Spiegel, spezielle Chemikalien. Was einst frei über Grenzen hinweg floss, erfordert nun Genehmigungen, Papierkram und politische Berechnungen. Die fortschrittlichsten Systeme benötigen Ultrahochvakuumbedingungen, die nur eine Handvoll Anbieter weltweit bereitstellen können, was Abhängigkeiten noch schwerer ersetzbar macht.
Sicherheitsrisiken von Dual-Use-Technologie
| Zivile Nutzung | Militärische Anwendung |
|---|---|
| Smartphone-Prozessoren | Lenksysteme |
| Smart-Home-Geräte | Überwachungsnetzwerke |
| Medizinische Bildgebung | Sensorarrays |
Chinas potentieller EUV-Fortschritt würde Zugang zu hochmodernen Chips ohne westliche Aufsicht gewähren. Exportkontrollen existieren genau deshalb, weil diese Technologien Machtgleichgewichte verändern. Freiheit hängt davon ab, wer das fortschrittlichste Silizium kontrolliert.
EUV-Lithographie ermöglicht erhöhte Transistordichte, die sowohl schnellere Verarbeitungsgeschwindigkeiten als auch geringeren Stromverbrauch bei zivilen und militärischen Anwendungen liefert. Die Dual-Use-Natur dieser Technologie macht sie strategisch kritisch für denjenigen, der Fertigungskapazitäten erreicht.
Globale Lieferkettenfragmentierung
Die geopolitische Rivalität zwischen Großmächten hat das einst reibungslose, miteinander verbundene Netz der Halbleiterproduktion zerstört. Nationen priorisieren nun politische Ausrichtung über Effizienz. US-Zölle erreichen 100% auf bestimmte Chip-Importe. China reagiert mit der Kontrolle von Seltene-Erden-Exporten. Dieser Vergeltungsansatz zwingt Unternehmen dazu, alles zu überdenken.
Das Vertrauen der Käufer fiel von 82% auf nur 65% in einem Jahr. Unternehmen fühlen sich unsicher bezüglich der Sicherung von Lieferungen. Chip-Innovation geschieht nun in getrennten Lagern—Ost gegen West. Wettbewerbsstrategien verschieben sich hin zu Dual-Sourcing und regionalen Produktionszentren. Südostasien und Indien gewinnen als alternative Produktionsstandorte an Boden.
Über 40% der Branchenführer erwarten Engpässe bei fortgeschrittenen Knoten unter 8 Nanometern. Das alte globale System bröckelt, ersetzt durch parallele Ökosysteme, die Anstrengungen duplizieren und Kosten für alle Beteiligten in die Höhe treiben. SMIC investierte 181,9 Millionen Dollar im Q2 2025 in F&E, um mit den technologischen Fortschritten der USA zu konkurrieren.
Wirtschaftliche Schockwellen für westliche Ausrüstungshersteller
Wenn China Fortschritte bei Chipmaking-Tools erzielt, geraten westliche Ausrüstungshersteller in ernsthafte finanzielle Schwierigkeiten. Unternehmen, die einst den Markt dominierten, müssen nun zusehen, wie Einnahmequellen versiegen, da chinesische Fabriken einheimische Alternativen wählen.
Die Auswirkungen treffen dort, wo es am meisten wehtut—bei den Gewinnen. Westliche Firmen verlieren lukrative Serviceverträge und Ersatzteilverkäufe. Ihre Lieferketten-Resilienz wird auf die Probe gestellt, da wichtige Kunden verschwinden. Währenddessen überschwemmen chinesische Hersteller die Märkte mit günstigeren Optionen und erzwingen Preissenkungen, die die Gewinnspannen dünn werden lassen.
Diese Verschiebung bedroht die Innovation selbst. Wenn die Renditen für Ausrüstungsinnovationen sinken, investieren Unternehmen weniger in Durchbrüche. Strategische Partnerschaften lösen sich auf, da staatlich unterstützte chinesische Firmen inländische Lieferanten bevorzugen. Pekings Vorschrift, die 50% inländische Chips in Rechenzentren verlangt, beschleunigt diese Verdrängung ausländischer Technologie. Das Ergebnis ? Westliche Hersteller müssen sich beeilen, neue Kunden zu finden, während sie zusehen, wie ihre einst zuverlässigen Marktanteile jenseits des Pazifiks zerbröckeln.
Das Rennen gegen Exportkontrollen und westliche Gegenmaßnahmen
Während China darum kämpft, seine eigenen EUV-Maschinen zu bauen, sind westliche Regierungen damit beschäftigt, die Regeln dafür zu verschärfen, was verkauft oder geteilt werden kann. Die heutigen Exportkontrollen blockieren die fortschrittlichste Chip-Herstellungsausrüstung, aber sie versuchen auch zu verhindern, dass Schlüsselingenieure Geheimnisse teilen und kritische Teile Grenzen überschreiten. Der US-Kongress drängt auf ein landesweites Verbot von DUVi-Werkzeugverkäufen nach China und schließt damit Schlupflöcher, die derzeit den Zugang zu weniger fortschrittlichen Lithografiesystemen ermöglichen. Mit Blick auf die Zukunft müssen Beamte in Washington, Tokio und Brüssel entscheiden, ob sie die verbleibenden Schlupflöcher schließen oder riskieren, China dabei zuzusehen, wie es Jahre von Beschränkungen in einem kühnen Schlag überspringt.
Exportkontrollarchitektur heute
Exportkontrollen klingen kompliziert—und das sind sie auch—aber im Kern sind sie einfach Regeln darüber, was an wen verkauft werden kann. Die Vereinigten Staaten führen diese Bemühungen durch Exportvorschriften an, die vom Bureau of Industry and Security verwaltet werden, das entscheidet, welche Technologien eine Genehmigung benötigen, bevor sie Grenzen überschreiten.
Das heutige System stützt sich auf drei Hauptinstrumente :
- Spezifische Produktverbote (wie die Blockierung von EUV-Lithographiemaschinen für bestimmte Länder)
- Entity-Listen, die riskante Käufer kennzeichnen
- Foreign Direct Product Rules, die über amerikanische Grenzen hinausreichen
Aber Compliance-Herausforderungen gibt es zuhauf. Verschiedene Nationen haben verschiedene Regeln, was Lücken schafft. Die Niederlande könnten einen Artikel blockieren, während Japan einen anderen genehmigt. Selbst unter Verbündeten unterscheidet sich das Timing—einige Länder aktualisieren Beschränkungen mit monatelangem Abstand. Diese Risse in der Mauer sind wichtig, weil China nur eine Öffnung finden muss. Während die USA im Oktober 2022 große Beschränkungen erließen, können konsensbasierte Mechanismen wie das Wassenaar-Abkommen Jahre brauchen, um neue Maßnahmen umzusetzen.
Talent- und Komponentenbeschränkungen
Angesichts Technologie, die sie nicht kaufen können, haben sich chinesische Forscher der ältesten Form der Akquisition zugewandt : der Anstellung der Personen, die sie entwickelt haben. Ehemalige ASML-Ingenieure erhalten nun Unterschriftsboni von bis zu 700.000 Dollar plus Wohnungszuschüsse. Lin Nan, der einst die Lichtquellentechnologie bei ASML leitete, wechselte zum Shanghai Institute of Optics und reichte innerhalb von 18 Monaten acht EUV-Patente ein. Diese Talentakquisitionsstrategie überträgt kritisches Know-how, das Blaupausen nicht erfassen können.
Doch die Anstellung von Experten löst nur die Hälfte des Rätsels. Die Komponentenbeschaffung bleibt gleichermaßen herausfordernd. EUV-Lichtquellen benötigen Hochenergie-Laser und spezialisierte Steuerungen, die von westlichen Unternehmen dominiert werden. Über 100.000 Präzisionsteile umfasst eine einzige Maschine. Während Teams Prototypen durch Reverse Engineering nachgebaut haben, erweist sich die fehlerfreie Herstellung dieser Komponenten für die Massenproduktion als weitaus schwieriger als einfache Demontage. Der fehlende Zugang zu Carl Zeiss-Optik zwingt Forscher dazu, Alternativen von Nikon und Canon zu erkunden, neben heimischen optischen Innovationen, die möglicherweise nicht den Präzisionsstandards entsprechen, die für kommerzielle Rentabilität erforderlich sind.
Westliche Reaktionsszenarien voraus
Da China darum wetteifert, seine eigene fortschrittliche Chipfertigungsmaschine zu bauen, bleiben die Länder im Westen nicht untätig. Westliche Allianzen arbeiten zusammen, um diesen Fortschritt durch Halbleitersanktionen und geopolitische Strategien zu verlangsamen. Ihre gemeinsamen Bemühungen umfassen :
- Verschärfte Exportregeln – Blockierung des Verkaufs von speziellen Spiegeln, Lasern und ultrareine Materialien, die China für sein Projekt benötigt
- Finanzieller Druck – Unterbindung der Finanzierung und Versicherung für Unternehmen, die Chinas Chip-Programm unterstützen
- Tech-Diplomatie – Verbündete wie Japan, die Niederlande und Südkorea auf dieselbe Linie bringen
Diese Durchsetzungsmechanismen zielen darauf ab, den Chip-Vorsprung zu schützen, der freie Nationen wettbewerbsfähig hält. Durch den Austausch von Geheimdienstinformationen und die Koordinierung von Beschränkungen hoffen Partner, ihren Vorsprung zu behalten, während China mit Entschlossenheit voranschreitet. Die von den USA angeführte Chip-4-Allianz könnte Herausforderungen von aufkommenden Konkurrenten gegenüberstehen, da China technologische Lücken schließt.
References
- https://www.youtube.com/watch?v=CHSK_C6_vgc
- https://www.scmp.com/tech/tech-war/article/3337100/china-eyes-mastery-euv-lithography-bolstering-ai-chip-ambitions-analysts-say
- https://timesofindia.indiatimes.com/technology/tech-news/you-are-wrong-how-ex-engineers-of-the-european-chip-giant-whose-ceo-said-china-is-way-behind-may-have-proved-him-incorrect/articleshow/126090606.cms
- https://militarnyi.com/en/news/china-reproduced-asml-technology-and-is-moving-toward-domestic-production-of-advanced-chips/
- https://www.engadget.com/big-tech/china-reportedly-has-a-prototype-euv-machine-built-by-ex-asml-employees-235833756.html
- https://80.lv/articles/china-allegedly-built-secret-euv-prototype-for-independent-chip-manufacturing
- https://www.youtube.com/watch?v=5oscLjzPIb8
- https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/china-may-have-reverse-engineered-euv-lithography-tool-in-covert-lab-report-claims-employees-given-fake-ids-to-avoid-secret-project-being-detected-prototypes-expected-in-2028
- https://en.wikipedia.org/wiki/Extreme_ultraviolet_lithography
- https://www.techspot.com/news/110649-china-has-reverse-engineered-euv-machine-marking-major.html
